双折射输入面准确的进行双折射光线的追迹要比追迹普通光线复杂的多：我们必须分别考虑寻常光和非寻常光的折射率和波矢方向。因此双折射光线追迹功能只在光线入射到双折射输入(Birefringent-In)表面时开始执行，在双折射输出(Birefringent-Out)表面结束。并且在双折射输入和双折射输出表面之间只允许存在坐标间断(CoordinateBreak)表面。在寻常光追迹中，光线向量S和波矢k的方向一致，因此OpticStudio使用寻常光的波矢k的分量来定义光线的方向余弦...

什么是双折射现象一般的光学材料都是均匀的各向同性的，也就是说无论光从哪个方向穿过材料，其折射率都保持一致。对于单轴材料来说，例如方解石(Calcite)，其晶轴定义了材料的对称轴。这类材料对光线的偏折能力随入射光的偏振态及入射光与晶轴的夹角不同而不同。因此对于任意一束光，两个正交的偏振态下可能存在不同的折射角。这种现象称为光的双折射。光线在双折射材料中的折射总是遵循斯涅耳定律(Snell`sLaw)的，但是材料中的有效折射率与入射光的偏振态和入射方向与晶轴夹角相关。其中“寻常...

1、OpticStudio在双折射材料中进行光线追迹时会追迹两条光线，这两条光线分别表示寻常光和非寻常光2、使用双折射输入面中的模式参数和多重结构功能可以分析任意偏振态光线的偏振追迹结果3、分析由2个双折射晶体组成的偏振器件需要4个多重结构；分析由3个双折射晶体组成的偏振器件需要8个多重机构，以此类推4、在计算多个结构光的总透过光强时需要计算光线振幅的叠加而不仅仅是光强的叠加

概述在OpticStudio的序列模式中，您可以在不影响其他面的情况下使用虚拟面(dummysurface)和求解类型：拾取(pickup)在透镜数据编辑器(LDE)及布局图(Layout)中显示系统的入瞳和出瞳。这篇文章介绍了如何在透镜数据编辑器中使用ZPL宏和主光线高度(ChiefRayHeight)求解厚度，以及如何在编辑器中隐藏虚拟面。介绍为了在透镜数据编辑器和布局图中显示入瞳和出瞳面，我们需要在透镜编辑器中插入虚拟面来模拟光瞳的位置。本文使用OpticStudio自...

偏振相关表面的应用在本节中我们会用实例介绍如何在OpticStudio中定义双折射延迟器和光隔离器。1、光学延迟器光学延迟器（也称作波片）可以改变输入光的偏振态。本节中展示了如何构建一个λ/4相位变化的零级延迟器（也称作四分之一波片），该器件可以将输入的线偏光转变为圆偏光。该系统中使用了双折射晶体Quartz和氦氖激光（632.8nm）。通常情况下，波片引入的延迟可由下式表示：其中△n表示寻常光和非寻常光的折射率之差，λ表示光的波长，d表示晶体的长度，表示弧度表示的相位延迟，...

OpticStudio有多种分析模拟偏振光学器件的功能。这篇文章介绍了每种功能在建模时的特点和合适的使用环境。产生偏振光源所有OpticStudio中的偏振分析都需要定义输入光的偏振态，通常情况下这些分析使用琼斯向量(Jx,Jy)来表示X和Y方向上不同起始相位的偏振分量。在OpticStudio中有两种输入光偏振态的方法。种是在每个独立的分析功能中设置明确的输入偏振态（Jx,Jy,X/Y起始相位），例如偏振光线追迹(PolarizationRayTrace)和偏振光瞳图(Po...

偏振相关介质的种类在OpticStudio中有多种可以改变输入光偏振态的方法。这些方法引入了偏振相关的表面或材料。下面我们来介绍三种方法并描述它们在通常情况下的应用场景。1、琼斯矩阵琼斯矩阵表面是一个理想的面型并且默认输入光为垂直入射。该表面使用2x2矩阵表示琼斯向量（用来描述电场）如下式所示：其中A,B,C,D,Ex和Ey均为复值。该矩阵可以通过二维向量描述三维电场但前提假设是默认其传播方向与Z轴重合。因此，电场分量只在XY平面。如果光线确实沿Z轴准直入射系统，则该表面可以...

概述这篇文章介绍了如何创建并使用包含自定义材料数据的材料库。介绍在OpticStudio中材料数据以材料库的形式进行管理，其中材料库文件是扩展名为.AGF的ASCII文本文件。这些材料数据库(MaterialCatalog)包含每一种材料的折射率、热扰动、透过率等数据，其中许多材料库是由供应商直接提供给Zemax的，例如schott.agf、ohara.agf、infrared.agf等等。需要注意的是在OpticStudio13及之前版本中材料数据库的名称为玻璃库(Glas...